日期:2012-07-04 11:20
程
晶片上溅射钛(Ti)作为黏附层，再溅射一层Ni-Fe合金种子层涂布光刻胶曝光并显影所需图形烘干，使光刻胶定型电镀前对晶片进行酸洗活化去离子水清洗Ni-Fe合金电镀去离子清洗清洗并用氮气吹干褪除光刻胶离子刻蚀去除所要图形以外的种子层。
2结果及讨论
2.1 Ni-Fe合金电镀工艺
1)工艺配方。①金属盐的选择。Ni-Fe合金电镀是镀液中Ni2+和Fe2+共同沉积在种子层上。本研究选用氯化镍、硫酸镍在镀液中提供Ni2+，硫酸亚铁提供Fe2+。镀液基础配方为:40g/L NiCl26H2O、36.5 g/L NiSO46H2 O、1.8 g/L FeSO47H2 O。②添加剂的