日期:2012-07-04 11:20
出的Ni-Fe合金镀层，其镀层表面粗糙度测试见图2，基本性能测试结果见表2。
从图2和表2可以看出，采用上述工艺进行电镀得到的Ni-Fe合金镀层质量完全满足晶片保护层基本性能要求。
3.2磁致伸缩的测定
磁致伸缩是考查磁性材料的一个重要参数，因应用领域的不同而要求不同。就电脑硬盘磁头而言，要求所镀Ni-Fe合金层在退火后(退火条件:磁场强度为19 895A/m，t为5h，为250℃)磁致伸缩越小越好，最好为0，即达到饱和状态。镀层的厚度及合金成分会对其产生影响。为此，本实验准备了不同成分、不同厚度的Ni-Fe合金镀层，分别经