日期:2012-07-04 16:49
析氧反应进行解释。随后T.B.Van等[14]进一步研究了火花放电的整个过程，指出电子雪崩总是在氧化膜最薄弱即最容易被击穿的区域先进行，放电时的巨大热应力则是电子雪崩的主要动力。1977年，S.Ikonopisov首次用定量的理论模型来解释微弧放电的机理，第一次引进膜的击穿电位VB的概念，并建立了VB与溶液参数之间的关系。1984年，J.M. Albella在前人研究的基础上，指出放电的高能电子束来自于扩散进入陶瓷层中的电解液，并进一步完善了S.Ikonopisov的定量理论模型，指出VB不仅与电解液参数有关，还与膜层厚度和所加电压之间存在一定关系。K.H.