日期:2012-07-04 16:49
.Dittrich提出了微弧氧化的工作电压与膜层间的关系模型，指出阳极表面附近类阴极(电解质/气体界面)的形成，即使在形状复杂的基体及空心部件上也能形成均匀的陶瓷膜层。A.V.Rykalin等[18]提出了微桥放电模型，认为氧化膜内存在放电通道，气体、熔化的粒子和电解液从此通道进入，使其逐渐缩小。2006年，Z.P.Yao等结合铝合金的生长过程提出了析氧反应的两电子反应机理和四电子反应机理模型，指出PEO过程中产生的等离子体主要为氧等离子体，首先是放电通道内生成的氧的气泡被击穿而产生氧的等离子体，进而引起孔底陶瓷膜的击穿。
由于析氧