日期:2012-07-06 15:50
公开号 101736372
公开日 2010.06.16
申请人 深圳顺络电子股份有限公司
地址 广东省深圳市宝安区观光路观澜大富苑顺络工业园
本发明公开一种片式铁氧体产品的电镀前处理方法，包括以下工序：将片式铁氧体烧银后半成品置于浓度为0.1% ~ 3%的铁的分散剂与醋酸丙酯溶剂构成的溶液中浸泡10 ~ 24 h，当磁体表面上覆盖一层保护膜后取出;用55 ~ 100 C的纯水清洗3 ~ 5次，将银端头上残留的铁的分散剂清洗干净，即可直接装篮电镀。其原理是：利用铁的分散剂对铁离子有强的亲和作用，而对银的亲和作用很弱之特性，在片式铁