电解沉积出金属层的方法和装置
日期:2012-07-10 17:02
  【专利号(申请号)】95107031.2
  【公开(公告)号】CN1138638
  【申请人(专利权)】阿托特德国有限公司
  【申请日期】1995-6-20 0:00:00
  【公开(公告)日】1996-12-25 0:00:00
  为了电解沉积出具有特定物理机械特性的均匀金属层,尤其是铜层,将不使用可溶解的阳极,这是因为它的几何形状会随着电解而改变,而且它的电场在小电镀室中的分布,也将因此而产生持续的变化。为了解决上述问题,提出一种方法,其中,添加在沉积溶液中的氧化还原体系将会在电解的同时,于不溶解的阳极上被转化掉。这里所形成的化合物将从一
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