PVD镀铬技术的原理及优势
日期:2012-07-11 14:58
子体源增强的PVD镀铬新技术,取代现行电镀镀铬技术,从根本上解决电镀生产过程造成的重金属污染问题。
  一、 PVD镀铬技术原理
  本技术主要采用电弧-溅射技术,利用阴阳极之间的放电离化氩气,使氩离子在作为阴极的靶材电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶原子,中性的靶原子或离子沉积在基片上,形成固体薄膜。本项目在上述原理的基础上进行改进和新技术开发,采用改进的电弧-溅射技术提高靶功率密度,采用等离子体源增强技术提高镀膜室的等离子体密度,从而开发出环保、高效的快速PVD镀铬新技术。
  二、 PVD镀铬技术的
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