脉冲电镀研究现状简述
日期:2012-07-25 17:40
分析,结果表明,在CoSO4-NiCl2体系中,当Co含量增加到0.12mol/L时,晶粒尺寸由100nm减少到十几纳米,且晶格膨胀,沉积层点阵参数增大,指出脉冲电沉积可望成为制备块体纳米晶及其合金的有效方法。向国朴等人[11]研究了脉冲参数对电沉积Ni-Co合金镀层的钴含量与硬度的影响,比较了脉冲电流和直流电流电镀Ni-Co合金镀层的各种性能。结果表明,脉冲电镀Ni-Co合金镀层的最佳脉冲参数为ton=1ms,toff=1.5ms,Jp=10A/dm2,脉冲电镀制备的Ni-Co合金镀层孔隙率较低,而硬度与耐磨性高于直流制备的镀层。向国朴等人另外研究了[12]脉冲参数对Ag-Sb合
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