日期:2012-07-25 17:40
分析，结果表明，在CoSO4-NiCl2体系中，当Co含量增加到0.12mol/L时，晶粒尺寸由100nm减少到十几纳米，且晶格膨胀，沉积层点阵参数增大，指出脉冲电沉积可望成为制备块体纳米晶及其合金的有效方法。向国朴等人[11]研究了脉冲参数对电沉积Ni-Co合金镀层的钴含量与硬度的影响，比较了脉冲电流和直流电流电镀Ni-Co合金镀层的各种性能。结果表明，脉冲电镀Ni-Co合金镀层的最佳脉冲参数为ton=1ms，toff=1.5ms，Jp=10A/dm2，脉冲电镀制备的Ni-Co合金镀层孔隙率较低，而硬度与耐磨性高于直流制备的镀层。向国朴等人另外研究了[12]脉冲参数对Ag-Sb合