日期:2012-07-31 15:41
质量。尤其是近年来,随着我国ICF物理实验研究的深入发展,对微靶的要求日益精密化、多样化和复杂化,这使ICF靶及其零件的制备面临越来越多的挑战。
本文首先对ICF微靶金镀件各种表面缺陷的微观形貌进行了表征,分析了缺陷的可能诱因;探讨了杂质对微靶电镀的危害,分析了镀金层的成分,确定了影响镀层质量的元素为钛和碳;研究了金属杂质对金的阴极还原过程的影响;分析了金属杂质、有机杂质以及颗粒物等杂质的来源;采用螯合萃取的方法对钛杂质进行去除,螯合剂为8-羟基喹啉,萃取剂为三氯甲烷,研究了萃取次数对杂质含量的影响,确定了合适的萃取次数