日期:2012-08-10 14:37
真空蒸镀是在真空条件下，用相应的方法加热膜料，使其蒸发气化成原子或分子，在基体表面沉积形成一定厚度的膜层。真空蒸镀具有工艺简单，操作容易，成膜速度快，效率高等特点。但也存在膜层结合力较差，工艺重复性欠佳之缺点。为了保证镀膜的质量，特别是为了改善膜基之间的结合力，真空室和工件镀前的清洗，并去除附在工件表面的一切脏物、氧化皮、钝化膜等至关重要。必要时，人炉蒸镀之前，基片还要进行离子轰击，以使工件表面完全洁净外，还可使基片表面有微观的凹凸不平，以利于膜基间结合;有时基片在真空室内还需进行加热，以彻底地去