Ni-P、(Ni-P)-SiC镀层的电沉积及其组织性能
日期:2012-08-14 15:26
置。用该装置进行了离心电沉积Ni-P及 阳iP)
复合镀层的试验,研究了工艺参数对镀层成份及镀层性能的影响。研究结果表明:用离心电沉积方法能够增大电沉积NIP合金的速度;影响镀层中磷含量 的因素主要有pH值、电流密度等。离心电沉积(NI卜SIC复合镀层中的a 含量 远大于常规电沉积;而且复合镀层中8 微粒分布均匀;镀层中8 含量随温度升 高而降低,随电流密度、镀液中a 含量及阴极旋转速度增大而增大;pH值对镀 层中出 含量影响不大;镀层硬度、耐磨性得到提高,复合镀层中 S i C含量越多, 复合镀层的硬度和耐磨性越好。
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