日期:2012-08-15 14:50
上获得厚度均匀的薄膜;只要能做成靶材的材料均可溅射，且镀膜时靶材无相变，化合物成分稳定，合金不易分馏，故材料适用范围广，既可用于高熔点金属、合金，也可用于化合物材料镀膜。但是，由于溅射时要使用高电压和气体，所以装置比较复杂，且沉积速率较低(磁控溅射除外)，基片会受到等离子体辐照作用而产生温升。
溅射镀膜的工艺方法多种多样，而且随着镀膜设备和仪器的改进还会不断衍生出新的工艺方法。以溅射离子的来源分为辉光放电阴极溅射和离子束溅射两大类;按电极结构则分为二极溅射、三极溅射、四极溅射、磁控溅射等;以电源与放电