射频溅射
日期:2012-08-15 15:07
子中和靶材周围的正电荷;而在负半周时，靶材受到离子的加速轰击，溅射出来的原子或分子在工件上沉积成膜。另一方面，当靶电极通过电容耦合加上射频电压后，靶上便形成负偏压，使溅射速率提高，并能沉积绝缘体薄膜。图9-11为射频溅射装置的结构示意图。
射频溅射可沉积导体、半导体和绝缘体，沉积速率快，膜层致密，空隙少，纯度高，膜的附着力好。

图9．11射频溅射装置的结构简图

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