日期:2012-08-15 15:11
磁控溅射是一高速低温溅射技术。它是在磁控管模式运行下的二极溅射，即在与靶表面平行的方向施加磁场，磁场与电场正交，磁场方向与阴极表面平行(见图912)。溅射产生的二次电子在阴极位降区被加速，获得能量成为高能电子，但它们落入正交电磁场的电子阱中，不能直接被阳极接收，而是在正交电磁场中作回旋运动，使二次电子到达阳极前的行程大大增长，增加碰撞电离几率，轰击靶的正离子的密度因而也大大提高。与二极溅射相比，即使工作气压降至l0-1Pa，溅射电压为几百伏，靶电流密度仍可达到几十毫安，沉积速度为几百到2000nm/min，从而获得非