日期:2012-08-16 15:27
直流二极型离子镀的原理如图9-17所示。它是利用基片和蒸发源两电极之间的辉光放电产生离子，并在基片上施加1～5kV负偏压，使离子加速撞向基片表面沉积成膜。
图9．17离子镀原理图
1一接负高压2一接地屏蔽3一基板4一等离子体5一挡板6一蒸发源7一氩气阀8一真空系统
由于辉光放电的气压较高(约1.33Pa)，对蒸镀熔点在1400℃以下的金属，如Au、Ag、Cu等多采用电阻加热蒸发源。如用电子束蒸发源，须利用压差板将电子枪室与离子镀膜层分开，并采用两套真空系统，以保证电子枪工作所需的高真空条件。总之，直流二极型离子镀设备简单，可用普