直流二极型离子镀
日期:2012-08-16 15:27
通真空镀膜机改装，镀膜工艺容易实现。
离子镀时，在工件表面沉积成膜的离子或原子的能量较高(102～103eV)，同时氩离子不断地轰击工件和膜层表面，清除了结合不牢的
原子和吸附于表面的残余气体分子，从而显著地提高膜层的致密度和膜基结合力。但是，也正因为轰击粒子能量高，对形成的膜层有溅射剥离作用，并引起基片的温升。另外，较低的真空度易造成膜层污染。

07/13 18:55