日期:2012-08-16 15:31
图9-18为三极型离子镀结构示意图，它是针对二极型离子镀在低气压下难以激发和维持辉光放电的问题，在蒸发源与基体之间加入了热电子发射极(通常为钨丝)和收集电子的正极，使得热发射的电子横越时，与蒸发的粒子流发生碰撞产生电离，以此来提高离化率。
图9-18三极型离子镀
1一阳极2一进气口3一蒸发源4一电子吸收极5一基板6一电子发射极7一直流电源8一真空室9一蒸发电源10一真空系统
DC二极型离子镀的离化率只有百分之零点几到～2%，而三极型的热电子发射可达10A，收集极电压为200v以下，与DC二极型相比，离化率显著提高，基体电流密