日期:2012-09-10 14:47
℃碳酸钠(Na2C03) 15～259/L 处理时间 l0～20mim
(2)表面抛光对要求不高的制件可以采用化学抛光，化学抛光采用三酸溶液，一方面可以去除表面的旧氧化膜，另外通过酸液的抛光溶解可使表面更光亮，化学抛光溶液的配方及工艺条件如下：
硫酸(H2SQ，98%) 100～1109/L OPl0乳化剂 2～3mL/L硝酸(HN03，65%) 60～659/L 溶液温度 70～85C盐酸(HCl，38%)40～509/L 抛光时间 . 2～5mim酸性橙黄染料 5～109/L
化学抛光主要是起提高光亮度的作用，其平整能力稍差，如果要提高光整度，可用电解抛光处理，电解抛光的溶液配方及工艺条件如下：
磷酸(