日期:2012-09-26 15:12
，含量太少的HSO4-不能对三铬酸离子右端Cr形成足够保护(催化不够)，过多的HSO4-会阻挠左端Cr的反应，而该反应是式(73)～式(75)的反应以及Cr的沉积所必需(过度催化)的。
根据Hoare[39,40]的氟催化Cr03基电镀体系，在F-扮演抑制剂和催化剂角色中，提出了几乎同样的机理。虽然机理不完善，但迄今为止它是最值得让人接受的。他的理论不完整性在于在处理铬沉积中没有涉及到结构和与阴极相邻的液膜(L_膜)的影响，该膜形成于阴极过程的初始阶段，并在稳态条件下不断形成和重整。
起始于俄罗斯的关于在L-膜上形成，并在该膜内反应的研究得到了延