日期:2012-09-26 15:12
伸，他们很早就认识到L_膜在电沉积中的机理，特别是对电流效率所起的决定性作用。另外，近来报道的一个众所周知事实是，卤离子(如，C1-、F-)能够明显地提高电镀铬的阴极电流效率[41]。
因为卤离子的水合不完全，所以它们可以渗进氢层，并吸附在金属表面。XPS[41]结果显示，在铬酸槽液中F-和C1-是稳定，可能参与了这些膜层的形成，卤离子的可能活化步骤是被吸附的卤离子首先渗入铬表面的氢层，然后形成一个桥式过渡态表面络合物。、阴极上的电子通过卤化物转移到Cr3+，Cr3+被还原为金属铬。由于过渡态络合物的形成，Cr3+转化为Cr0的活化能