日期:2012-09-26 15:12
络合物存在，但金属的还原只是从络合物[HS04]了[Cr207]}中进行，其中n=l，m=1，25
另外一篇关于铬沉积机理的文章利用了动电位和阻抗测量方法进一步确认沉积机理[48]，该方法是基于形成的阴极膜(包括固、液相)由Cr3+氧化物-氢氧化物组成。研究人员觉得需要一种在过渡态和稳态条件下研究沉积机理的方法。来自环境学家的压力导致了用毒性较小的Cr3+镀液取代Cr6+镀液的研究。与此同时，三价铬和六价铬电沉积机理相互交错，两种情况的铬配位化学很复杂。虽然在20世纪50～70年代出现了大量关于铬沉积机理的研究，但随后类似的论文很少。原因包括