微电子装置中的钴化学镀
日期:2012-09-26 15:59

公开号 101238239
公开日 20080806
申请人 恩索恩公司
地址 美国康涅狄格州
一种于微电子装置的制造中在金属基的基材上沉积Co或Co合金的化学镀方法和组合物，包括一种Co离子源，一种用于将沉积离子在基材上还原成金属的还原剂，及一种肟基化合物稳定剂。

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