日期:2012-09-28 15:54
申请号：201010290015.8
申请日：2010.09.17
名称：铱电镀液及其电镀方法
公开(公告)号：CN102400190A
公开(公告)日：2012.04.04
主分类号：C25D3/54(2006.01)I
申请(专利权)人：日本电镀工程股份有限公司
地址：日本东京
发明(设计)人：伊东正浩
专利代理机构：上海专利商标事务所有限公司
代理人：冯雅;胡烨
摘要
本发明提出可以容易地形成裂缝的产生得到竭力的抑制的铱电镀被膜的铱电镀液及其电镀方法。本发明是使用向阴离子成分为卤素的铱(III)配盐中加入选自饱和单羧酸、饱和单羧酸盐、饱和二羧酸、饱和二羧酸盐、饱和