半导体引线脚纯锡电镀去氧化工艺的影响
日期:2012-11-01 09:44
量越来越高。但为了保证在键合区能够较好地镀银,框架生产商又会在框架表面电镀一层铜,但这层铜厚度只有0.5 ̄1 m,在较强去氧化液处理过程中容易被剥离而露出杂质含量高的铜基体,而一般的去氧化液无法将全部杂质金属粒子去除。所以附有较多杂质的铜基体将会进入清洗后镀锡。但由于锡在不同金属上的析出电位不同,结合力不同等因素,最终会影响锡层的结晶形态。
镀层晶格排列尚可,但在晶粒上出现许多小孔,且每个晶粒形状较尖锐,这样也就增加了镀层表面的粗糙程度和空隙率。加上镀层内部杂质金属极易和镀层、铜基体形成腐蚀原电池,会
9/10 下一页 上一页 首页 尾页
返回 |  刷新 |  WAP首页 |  网页版  | 登录
07/07 21:43