日期:2012-11-05 10:48
的斜率和截距。由图1可知，在同一镀液温度下，相对于不含添加剂镀液(曲线1)，a，a-联吡啶、K4Fe(CN)6的加入，使得铜沉速率下降，可见它们对铜的化学沉积有阻碍作用;沉积速率的对数值(1n)与镀液温度的倒数(1/T)呈直线关系，其斜率分别为3832.1、4438.3、6311.7和5712.1，据此可计算出铜化学沉积反应对应的活化能分别为Ea1=31.9KJ/mol、Ea2=36.9KJ/mol、Ea3=52.5KJ/mol、Ea4=47.5kJ/mol。
化学镀铜沉积速率受两方面因素的影响，一是化学沉铜活化能，二是受添加剂动力学参数影响的动力学过程。这可从(2)、(3)、(4)方程式看出。由于1n与1/T呈