印制电路板镀层缺陷成因分析及其对策
日期:2012-11-06 10:08
旦确定,将这些数据编入钻孔程序中。
2.2 孔壁去树脂沾污及凹蚀处理工序
首先应该指出,凹蚀与去沾污是两个互为关联,但又相互独立的概念和工艺过程。
所谓凹蚀,是指为了充分暴露多层板的内层导电表面,而控制性地去除孔壁非金属材料至规定深度的工艺。
所谓去沾污,是指去除孔壁上的熔融树脂和钻屑的工艺。
显然,凹蚀的过程也是去沾污的过程。但是,去沾污工艺却不一定有凹蚀效应。
尽管人们选择优质基材、优化多层板层压及钻孔工艺参数,但孔壁环氧沾污仍不可避免。为此,多层板在实施孔金属化处理之前,必须进行去沾污处理。为
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