印制电路板镀层缺陷成因分析及其对策
日期:2012-11-06 10:08
3 电镀工序
2.3.1 电镀前的板材处理化学粗化
为了保证化学镀铜层与基体铜箔的结合力,在化学镀铜(沉铜)前,必须对铜箔表面进行一次微粗化(微蚀)处理,处理方法一般采用化学浸蚀,即:通过化学粗化液的微蚀作用,使铜箔表面呈现凹凸不平的微观粗糙面,并产生较高的表面活化能。
印制板镀铜工艺中常用的微蚀液有:过硫酸铵(NH4)2S2O8、双氧水H2O2及过硫酸钠(Na2)2S2O8三种体系。前者溶液不稳定、易分解,因而微蚀速率不易恒定;H2O2H2SO4体系虽使用方便,甚至可以自动添加来调整浓度,但需用H2O2稳定剂及润浸剂,价格不低,且微蚀速率较低
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