日期:2012-11-07 10:21
后所形成的黑色氧化膜必须用冲洗或刷洗的方式去除。
3.2铬酸酐浓度的影响
氢氟酸溶液中加入铬酸酐会提升镀层退除速率。以使用25%(质量分数)HF为例，阳极电流密度为20 A/dm2时的退除速率是3.3 m/min，而加入95 g/L铬酸酐后增至4.6m /min。铬酸酐质量浓度低于75 g/L时，退除速率难以加快且基体有腐蚀现象。若铬酸酐质量浓度增至150 g/L，速率却仍为4.5m /min，并未大幅提高，但基体无腐蚀现象。图2、3和4为不同条件下采用氢氟酸与铬酸酐混合液退除镀铜层及镀铜层+化学镍层时，电压及电流随处理时间的变化关系。