日期:2012-11-07 10:33
、45、60、75和90 min。在整个微弧氧化过程中保持温度在35℃左右。
2.3性能表征
采用北京时代的TT240覆层测厚仪对不同氧化时间的氧化膜层的厚度忆)进行测量，用螺旋测微计测定实验前后试样同一位置的尺寸，分别记为Ho和H1，根据a (Hl - Ho)/2，确定氧化膜相对于铝基体向外生长部分的尺寸a，进而确定向基体方向生长的尺寸b。L、a和b的关系如图所示：
采用北京时代TR200手持粗糙度仪对不同氧化时间内所制备的氧化膜层的表面粗糙度Ra进行测量，正反面分别测量5次，最后取平均值作为微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度值。用扫描电子显微