日期:2012-11-07 10:33
示。从图中可以看出，膜层的总厚度随着氧化时间的延长而逐渐增加，但没有呈现无限制的增长。在各个不同时间段，膜层的增长速率并不相同。在起始阶段，膜层厚度的增长速率较大;随着时间的延长，增长速度逐渐下降。这是由于微弧氧化过程是一个沉积与溶解的动态过程，在微弧氧化初期，所形成的膜层较薄，较易被击穿，在高温高压的作用下，喷射出的熔融物较多，因此膜层增长较快。当膜层达到一定的厚度时，击穿变得困难，膜层的增长减缓。若氧化时间过长，膜层厚度会出现下降趋势。试验发现，膜层同时向基体方向和背离基体方向生长。由此可见，