日期:2012-11-14 10:23
先做等离子抛光，因为等离子抛光可以充分去除工件冲裁面的批锋，利角和表面脏污。从而使得真空真空镀膜膜的附着力大大增强，特别是冲裁面的边角位不易脱膜,能将镀膜附着力良率提高15%以上。等离子抛光工艺还有退掉镀膜的功效，我们只要通过特定的抛光剂,在短的时间(30～180s)内就可以完全脱掉镀膜。这样大大节省脱膜时间。对于那些表面真空镀氮化碳或氮化铬的产品,脱膜相对较难,通过等离子抛光也能去完全将表面膜层去除干净,但是抛光时间需要延长一倍以上。虽说抛光时间相对增加，但任然不会伤到基材表面，相反会大大增加返镀的良率(因为等