日期:2012-11-14 10:23
这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。
等离子抛光是一种全新的金属表面处理工艺,仅在工件表面的分子层与等离子反应,分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米,处理深度为0.3-4.5纳米.抛光物的表面粗糙度在1MM范围内,因此等离子化学活化工件表面,去除表面分子污染层,交叉链接表面化学物质。
等离子抛光的一些特性测验：
(1).抛光速率测试
由测试数据显示,液态等离子抛光对SUS303、SUS304与SUS316等型号的不锈钢材质的抛光速率结果。测试结果发现液态等离子抛光的抛光速率与基材种类关联性小。但是，抛光速率伴随