气离溅射离子镀制氮化钛技术
日期:2012-11-15 10:52
公司的 AS360Lab 型试验机上,工作电流可达到 5A 以上。在 0.16 Pa 以下的真空条件下,气体进气量几乎没有低限;真空度进入 10 -2 Pa 的较高真空度后,气体进气量需要增加,一般在 100sccm 以上。
另一重要的特点是,该气体离子源的电压直接施加在离子源阳极和被镀工件之间。从离子源狭缝飞出的气体离子直接由离子源电源获取动能轰击到工件表面,因此对于磁控溅射镀膜过程不再需要单独的工件偏压电源,降低了系统的电源成本。
按照目前常规方法,气体离子源和工件偏压分别由两个独立电源施加,对于工件表面上的电弧打火两个电源不能同步
11/26 下一页 上一页 首页 尾页
返回 |  刷新 |  WAP首页 |  网页版  | 登录
07/09 14:19