日期:2012-11-15 10:52
灭弧动作，很容易造成灭弧失效损坏工件。采用这里全新提出的单电源驱动方式后，上述严重问题迎刃而解。
3. 汇聚和空分气离溅射
气体离子源的布气方向与磁控溅射镀膜区域重叠( Fig.4 )，类似于 1(e) 中描述的情况。气体离子源对反应气体进行离化和布气，在离子源电源电场的作用下，大量气体离子获得动能(温度)飞向工件表面，产生轰击作用，从而有效地增强了磁控溅射的反应离子镀膜效应。另外，在反应镀膜过程中气体离子轰击工件，表面上不稳固的离子被轰落，而膜层结构则被夯实，更加致密和平滑。这一汇聚气体离子源增强磁控溅射离子镀膜