日期:2012-11-15 10:52
膜简称为汇聚气离溅射反应离子镀膜( Focus GIMS reactive ion plating )。该技术应用在类金刚石( DLC )镀膜中，取得了令人鼓舞的结果 [23] 。
当气体离子源单独放电工作时，阳极上施加了几百伏的正电压( 550-750v )，气体离子源产生的等离子体具有高的正电位( Fig.5 中的 U p2 );而磁控溅射源产生的等离子体则呈现低的正电位( U p1 )。 当两种源同时工作，两边的等离子体汇聚，发生等离子体耦合，电位相互拉近( U p1+2 )。同时也影响到气体离子源的工作正电压和磁控溅射源的工作负电压相向降低。各自减小的程度决定于两种源工作功率(电