日期:2012-11-15 10:52
改变氮气的进气量， TiN 膜层的色泽可以偏深或偏浅。说明反应镀膜的窗口已经展宽。
镀膜工作参数设定后，镀膜机可以长时间(几个小时)地进行稳定镀膜。磁控靶的溅射速率基本不受影响。镀膜过程的控制和阴极电弧离子镀膜相似。
采用空分气离溅射技术镀制出的 TiN 膜层完全达到装饰镀的最高要求。在以下方面都明显地优于阴极电弧镀膜的效果：( 1 )表面光洁度;( 2 )色泽均匀一致性;( 4 )低温成膜;( 5 )膜层致密性;( 6 )耐腐蚀性;( 7 )耐磨性和( 8 )膜厚度。
在进行空分气离溅射镀膜时，中频电源应选用恒功率输出设定，以保证磁控溅射的