日期:2012-11-15 10:52
溅射速率(对于不同厚度的靶材等变数)基本不变，气体离子源电源可以选用恒功率或恒电流设定(恒电流设定时电源的抗干扰能力似乎更强)。对于镀制 TiN ，气体离子源的工作功率要和磁控溅射靶的工作功率相匹配，放电功率比约为 9:1 。
离子源工作电流偏大，工作电压就高，容易造成工件表面膜层出现边缘效应，色泽不均匀;如果离子源功率偏小，又会使得氮气离化不完全，在工件表面上的轰击氮化反应不充分，富余的气体造成磁控靶表面的中毒加深，降低金属溅射速率，最终在富氮环境下镀制出褐色 TiN 。
4.3. 脉冲直流电源驱动气体离子源
气体离