气离溅射离子镀制氮化钛技术
日期:2012-11-15 10:52
离子体震荡,也使得带电离子更容易进入到工件结构的深处,从而明显地改善了工件表面所镀膜层的均匀一致性。
由于脉冲直流电源会产生 10% 的脉冲正电压,周期性地吸引负电子到工件表面,使之中性化。从而避免工件表面正电荷过度聚集造成膜层击穿放电的问题,也避免了正电荷聚集的工件表面对离子的排斥作用。对于镀制导电性不好的介质膜,或者绝缘性的氧化膜,以及在绝缘工件上的离子镀膜应用,上述电源特性已经证明发挥了关键性的作用 [24] 。
5. 结论
采用空分气离溅射( Separate GIMS )反应离子镀膜技术,实现了工业化生产所要求的
22/26 下一页 上一页 首页 尾页
返回 |  刷新 |  WAP首页 |  网页版  | 登录
07/08 10:17