日期:2012-11-15 10:52
恒定参数长时间稳定( stoichiometry )镀制 TiN ，所镀膜层完全达到装饰性镀膜的最高标准。使得空分气离溅射镀制 TiN 膜层具有了阴极电弧镀膜相类似的易控性、稳定性和一致性。从而无需采用更加昂贵和复杂的监测技术(如等离子荧光监测( PEM )或残留气体分析( RGA )技术等)和快速控制技术(如快速响应气体质量流量控制器，或气体脉冲压电控制阀门等)。
空分气离溅射仍是一项崭新的反应离子镀膜技术，本文目前只能依据现有工作做出以上初步的结论。在此也提出一些新的有关课题和问题，有待进一步深入试验和研究：
由于被镀工件经历的磁控