日期:2012-11-15 10:52
溅射金属性(纳米)镀膜过程，和气体离子源气体离子轰击化学反应过程，在时间上和空间上都是分开并周期进行的：
由此形成的反应膜层的结晶结构是否有所不同?
适当控制后是否可以改善柱状晶的形成和生长?
仔细控制一周内空分气离溅射反应离子镀膜的每个过程，可否生长出不同性能的纳米膜层?
是否可以进一步降低反应镀膜时的工件温度?从而扩大离子镀膜在温度敏感性材料上的应用。
本文虽然只涉及 TiN 镀膜，对于其他离子反应镀膜(如介质膜： ZrCN ， CrN ， DLC ， TiAlN ，和氧化膜： Al 2 O 3 ， TiO 2 等)，空分气离溅射技术也应