气离溅射离子镀制氮化钛技术 - 电镀技术

气离溅射离子镀制氮化钛技术
日期:2012-11-15 10:52
也不存在阴极电弧的最低放电电流问题。因此更加容易精确控制施加;
当气体离子源通入含碳有机气体时，可以单独进行气体离子镀 DLC 膜。或者辅助磁控溅射源镀制 DLC 膜层;
当气体离子源通入反应性气体(如氧气)时，可以进行气体离子表面处理(如氧化)等特殊过程。