气离溅射离子镀制氮化钛技术
日期:2012-11-15 10:52
于正电压时段,靶面只会受到电子的轰击,靶面毒化作用被抑制。同时,采用中频磁控还可以避免毒化靶面产生电荷积累引起靶面电弧打火的问题 [16] ,以及镀制绝缘膜层时出现的阳极(真空室壁)消失问题 [17] 。中频电源的两个输出端分别接在磁控溅射对靶的各自电极上,电源输出一定频率( 40-80kHz )的交变正弦波或者方波,一对磁控溅射靶则交变地成为阴极(溅射)和阳极(熄灭)。这一系统简单可靠,不需要任何附加的监测和控制。中频电源驱动磁控溅射对靶或孪生靶已经逐渐成为主流之一。
( e )在真空室中一个磁控靶用于大量溅射金属粒子,另一
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