日期:2012-11-15 10:52
布气;
适用于任何惰性和反应性气体，以及它们的混合气;
在磁控溅射的真空范围内，离子源能够正常稳定放电工作;离子源需的进气量要符合磁控溅射源的工作条件;
端法兰结构密封，方便安装。 360 度任意调整布气方向;
采用普通直流电源驱动，或采用脉冲直流电源驱动。
根据以上技术要求，丹普公司自行开发研制了阳极层流型 矩形气体离子源( LISE830/102 ) ( Fig.2 )。
该矩形离子源通过靶体(导磁金属)将磁场聚集在跑马场形状出气缝隙处(类似磁控溅射源)，用于束缚电子在阳极表面附近形成高密度的等离子体区域，产生气体离子。这些离