真空镀膜过程的均匀性
日期:2012-11-19 10:42
气体氛围)、基片温度 、激光器功率、脉冲频率、溅射时间。对于不同的溅射材料和基片，最佳 参数需要实验确定，是各不相同的，镀膜设备的好坏主要在于能否精确控温，能否保证好的真空度，能否保证好的真空腔清洁度。MBE分子束外沿镀膜技术，已经 比较好的解决了如上所属的问题，但是基本用于实验研究，工业生产上比较常用的一体式镀膜机主要以离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜为主。

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