日期:2012-11-19 10:52
膜的质量，系统要求必须具备一定的基础真空;
第二个过程是离子轰击，为了提高膜层的附着力，采用高能离子轰击清洗工件表面，以去除表面杂物及脏物;
第三个过程是磁控溅射镀膜，从阴极发身出来的电子，在磁场和电场中受到洛仑兹力的作用，沿着磁场的方向作摆线动力前进，沉积到工件表面开成薄膜;
第四个过程是系统开关机，这是镀膜前后对整个设备的处理操作。
3.1真空获得过程的自动化控制设计
磁控镀膜生产线真空系统采用滑阀真空泵一罗茨真空泵一高真空油扩散泵机组来获取低真空和高真空，采用微机型数显真空计来检测真空度，该过程