应用于磁控溅射镀膜生产线的计算机监控系统的设计
日期:2012-11-19 10:52
指标是氩气质量流量、轰击电压、轰击电流、轰击时间和传动速度等;为了满足镀膜工艺的要求,可以选择工件缓慢地通过轰击室,一边行进一边轰击;也可以选择工件停留在轰击室,轰击一段时间后再进入缓冲室,这就实现了对工件的高能离子清洗。
3.3镀膜过程的自动化控制系统设计
为了满足镀膜工艺的要求,镀膜过程中需要控制氩气质量流量、反应气体质量流量、各靶溅射电压、溅射电流和镀膜传动速度等指标。当工件行进至磁控靶前,靶电流由维持状态自动转至工作状态,对工件进行镀膜,直至工件离开该靶后,回复至维持状态,最大限度地节省靶材。
12/16 下一页 上一页 首页 尾页
返回 |  刷新 |  WAP首页 |  网页版  | 登录
07/15 05:32