日期:2012-11-22 10:23
铜
一般情况下，光亮镀铜都有一个规律：从赫尔槽试片上看，阴极电流密度越大的地方，镀层光亮整平性越好;电流密度越低，光亮整平性越差。试图扩展低电流密度区光亮范围，始终是电镀工作者不断追求的目标。这就要从光亮剂、工艺配方与工艺条件、设备等多方面入手。可以认为，光亮酸性镀铜是迄今光亮整平性最好的镀种之一。但在实践中，采用同样的配方、工艺条件，使用相同的光亮剂，得到的光亮整平性与光亮范围，却可能出现较大差异。究其原因，与所用直流电源输出纹波系数大小有很大关系。具有关资料，二十多年前，国内在开发MN系列光亮酸