日期:2012-11-23 14:53
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0前言
Co-W合金镀层具有优良的耐蚀性、耐磨性及磁性能等特性，不仅可以作为超高密度垂直磁记录的介质，还可以代替电子设备中的微磁体[1-2]。制备Co-W合金镀层的方法有热熔法、离子镀法、化学镀法和电镀法等，但是传统的制备方法都存在一些缺点(如镀层孔隙率大、表面不够平整、有气孔等)。近年来，人们开始研究在磁场下制备金属合金镀层。在电镀过程中，引入磁场可以有效地改善镀层孔隙率大、表面粗糙等问题。本实验在磁场下电沉积制备Co-W合金镀层，研究了磁场强度对镀层沉积速率、微观形貌、成分以及磁性能等的