日期:2012-11-23 14:53
度对Co-W镀层沉积速率的影响
图1为磁场强度对Co-W镀层沉积速率的影响。由图1可知：磁场强度对沉积速率有明显影响，随着磁场强度的增大，沉积速率显著提高;当磁场强度为1T时，沉积速率达到60 gm-2h-l，比无外加磁场时的沉积速率提高了近2倍。在电镀过程中引入磁场，由于磁场垂直于电场，产生宏观的洛伦兹力作用，从而搅拌镀层附近的双电层，消除了浓差极化，提高了化学反应速率[3]。另一个对镀液的传质作用有显著影响的磁化力是磁场梯度力。磁场梯度力和磁场强度的平方成正比，磁场强度越大，镀液的传质速率越快。因此，磁场可以