日期:2012-11-23 14:53
图3为磁场强度对Co-W镀层微观形貌的影响。由图3可知：无外加磁场时，镀层的孔隙率高，气孔较多，这主要是浓差极化使得镀层附近冒出大量氢气所导致的结果;随着磁场强度的增大，镀层的孔隙率降低，气孔逐渐减少;当磁场强度为1 T时，镀层平整，孔隙率低，微粒大小均匀。施加磁场之所以能降低镀层的孔隙率，主要是由于洛伦兹力的磁对流效应。
图4为在不同磁场强度下所得镀层的AFM显微图。由图4可知：无外加磁场时，镀层表面呈均匀的瘤节状;当磁场强度为0.2 T时，镀层表面出现了许多山状的微粒，此时钴在磁场力的作用下有垂直